La generazione ed il controllo di fasci di luce complessi, cioè fasci con distribuzione di ampiezza e fase non usuale, richiedono la manipolazione del fronte d'onda su scala micrometrica.

Ciò è ottenibile tramite specifici pattern tridimensionali microstrutturati, realizzati su materiale trasparente, in grado di agire localmente sulla luce incidente per trasferire specifiche distribuzioni di fase al campo elettromagnetico.

Il laboratorio LaNN ha una vasta esperienza nella progettazione e fabbricazione di elementi ottici diffrattivi per la generazione ed il controllo di fasci di luce dotati di momento angolare orbitale (OAM). La fabbricazione di tali maschere di fase viene effettuata mediante litografia a fascio elettronico (EBL) 3D, in modalità ad alta risoluzione.

Le applicazioni di questi dispositivi ottici spaziano dal mondo delle telecomunicazioni (multiplexing di fasci di diverso momento angolare orbitale per una maggiore capacità di informazione), alla microscopia ed all’astronomia (microscopi ottici e telescopi ad alta risoluzione), all'uso in campi quali l'olografia (soluzioni innovative per l’anti-contraffazione) e la biologia (analisi di sistemi a basso contrasto).