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Laboratori e strumentazione
Laboratori e strumentazione
Il centro di ricerca dispone di una clean room ISO 6 (classe 1000) di 180mq con cappe chimiche e laminari (ISO2), fornita della seguente strumentazione per la nanofabbricazione/caratterizzazione:
LaNN dispone inoltre di un laboratorio ottico equipaggiato con i seguenti strumenti per la caratterizzazione:
La micro-nano litografia è il processo mediante il quale un pattern viene trasferito da un master (anche in formato digitale) ad un substrato rivestito con un film (resist), esponendo quest’ultimo a luce (tipicamente UV), elettroni, ioni o calore. Il processo descritto è necessario per la fabbricazione dei componenti nanometrici presenti in quasi tutte le moderne tecnologie, sensori, sistemi di drug delivery e dispositivi di data storage.
LaNN dispone di diverse tecniche per la micro-nano litografia, illustrate nel seguito:
LaNN dispone inoltre di diverse tecniche di caratterizzazione per analisi ottiche, spettroscopiche, topografiche, morfologiche e composizionali:
- Electron Beam Lithography JEOL JBX-6300FS ,100KeV, 12MHz, ≦ 8nm di risoluzione per Master & Mask Production e High Resolution Lithography (l’unico sistema di litografia e-beam di questo tipo disponibile in Italia presso un centro di ricerca)
- Focused Ion Beam Nova 600 NanoLab Dual Beam SEM/FIB, 30KeV per Nanoscale Prototyping, Machining e caratterizzazione ed analisi di strutture al di sotto dei 100nm
- Light Curing System DYMAX PC, 400W
- Sputter coater, spin coaters, hot plates, magnetic stirrers, bagni a ultrasuoni e per la crescita elettrolitica, essiccatori, forno
LaNN dispone inoltre di un laboratorio ottico equipaggiato con i seguenti strumenti per la caratterizzazione:
- Spectroscopic Ellipsometer J.A. Woollam VASE, 270-2400nm per analisi in Riflessione e Trasmissione
- Optical Microscopy ZEISS AXIO Scope.A1, fornito di obiettivi 5x, 20x, 50x, 100x, 150x e di telecamera digitale per Laboratory Imaging
- AFM Microscopy A10 APE research
- SNOM Microscopy Alpha SNOM WITEC per analisi SNOM, di fluorescenza e micro-Raman in geometria confocale
- He-Ne Laser Melles Griot (35mW di potenza), Wavelength-Tunable Ar Ion Laser Melles Griot (fino a 40mW di potenza)
- Banco ottico ed accessori
La micro-nano litografia è il processo mediante il quale un pattern viene trasferito da un master (anche in formato digitale) ad un substrato rivestito con un film (resist), esponendo quest’ultimo a luce (tipicamente UV), elettroni, ioni o calore. Il processo descritto è necessario per la fabbricazione dei componenti nanometrici presenti in quasi tutte le moderne tecnologie, sensori, sistemi di drug delivery e dispositivi di data storage.
LaNN dispone di diverse tecniche per la micro-nano litografia, illustrate nel seguito:
LaNN dispone inoltre di diverse tecniche di caratterizzazione per analisi ottiche, spettroscopiche, topografiche, morfologiche e composizionali: