PROCESSO. La tecnica utilizza uno stampo elastomerico, fabbricato in silicone (polidimetilsilossano o PDMS) recante sulla sua superficie un rilievo micro o nanostrutturato. Data la natura morbida dello stampo, un contatto perfetto con la superficie è facilmente ottenibile senza necessità di applicare pressioni particolarmente alte, anche su superfici piuttosto rugose o curve. La risoluzione ottenibile con le diverse tecniche soft-litografiche raggiunge tipicamente i 100 nm. La soft-litografia è caratterizzata da una gamma estremamente ampia di materiali strutturabili che spaziano dai polimeri ai gel, dai self-assembled monolayers fino a proteine e cellule. Come le litografie di tipo “imprint” anche le techniche soft-litografiche sono estremamente economiche e capaci di strutturare superfici molto estese in tempi rapidi.

APPLICAZIONI. La soft-litografia permette la realizzazione di strutture micro o nanometriche, partendo da stampi pre-fabbricati e sfruttando materiali polimerici, detti appunto ‘soft’. Per la soft-litografia al LaNN utilizziamo tipicamente il processo di “replica molding” con polimeri elastomerici, come il PDMS. Questo è uno dei materiali più comuni per la fabbricazione di dispositivi microfluidici grazie soprattutto alla sua trasparenza, bio-compatibilità e alla capacità di replicare fedelmente strutture nanometriche.

STRUMENTAZIONE. Lo strumento in dotazione al LaNN è il UV Light Curing System DYMAX PC, fornito di una lampada di potenza 400W.