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Unità tecnologiche

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Nanofabbricazione

La TU di nanofabbricazione è dedicata alla messa a punto dei molteplici processi in relazione ai diversi progetti che vedono il coinvolgimento di LaNN.
Grazie alla disponibilità di strumentazione all’avanguardia, quale un sistema di litografia elettronica EBL JEOL JBX-6300FS (100KeV) con correttore di prossimità ed uno di litografia ionica ed elettronica FIB/SEM Nova 600 NanoLab DualBeam (30 KeV), LaNN è in grado di fabbricare nanostrutture ad altissima risoluzione (6-7 nm) e precisione.
Sono state sviluppate in particolare tramite electron-beam lithography tecniche di litografia 3D per applicazioni in opto-elettronica ed olografia, unitamente a tecniche di litografia di nanostrutture multi-layer grazie all’elevata precisione consentita dai processi di overlay.
Sono stati inoltre messi a punto processi per la fabbricazione di master per l’imprinting e per l’imprinting roll to roll e sono attualmente allo studio processi per la fabbricazione tramite soft lithography di repliche a basso costo ed alto throughput di master micro o nanostrutturati, assieme allo sviluppo di resist ibridi a matrice sol-gel per la sintesi di nuovi materiali.

Caratterizzazione


Il laboratorio è attrezzato per effettuare caratterizzazioni su scala nanometrica ed analisi molecolare tramite fluorescenza e spettroscopia micro-Raman. È dotato di un microscopio AFM per misure di topografia, di un microscopio SNOM per misure di spettroscopia in campo vicino e di un focused ion beam SEM/FIB ad altissima risoluzione (1.1 nm @ 15 kV) per analisi topografiche, morfologiche, composizionali e failure analysis di IC e PIC. Dispone inoltre di un ellissometro spettroscopico per analisi in riflessione e trasmissione. Il laboratorio di ottica è equipaggiato con un laser a He-Ne da 35mW di potenza e con un laser tunabile a ioni di Argon con potenze fino a 40mW.

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